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2013-2016年全球及中国ITO靶材行业研究报告 |
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字数:2.8万 |
页数:77 |
图表数:0 |
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编号:BXM071
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发布日期:2014-05 |
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ITO（氧化铟锡）靶材是电子信息领域的核心关键材料之一，主要用于制造平板液晶显示器、触摸屏、薄膜晶体管、太阳能电池透明电极以及多功能玻璃等。
目前，全球ITO靶材几乎被JX日矿日石金属、日本三井矿业、日本东曹、韩国三星、德国贺力氏及美国优美科的少数几家公司垄断，其中日韩企业占到了近80%的市场份额。由于缺乏核心技术，中国ITO靶材企业的生产规模还很小，基本处于试生产或小批量生产阶段。
全球ITO靶材需求市场主要集中在日本、韩国、中国大陆等亚洲国家，其中中国占到全球总需求的35%以上。受益于平板显示、触控屏等下游产业的快速发展，预计到2016年全球ITO靶材需求将达到2500吨左右，其中中国需求占比将超过40%。
除了受供需市场影响外，ITO靶材还受到原料铟市场的直接影响。全球70%的铟用于ITO靶材生产，但铟资源稀缺，全球基础储量只有1.6万吨，而目前全球每年的消费在1400吨左右，因此长期供给面临瓶颈。
中国是全球铟资源大国，基础储量占到全球的62%。由于下游深加工产业，特别是ITO靶材市场发展缓慢，致使中国铟大量出口，而ITO靶材则高度依赖进口。
为了突破技术和产能瓶颈，有效利用铟资源，近年中国企业加快了ITO靶材技术研发和引进，上马了多个高端ITO靶材国产化项目。
株冶集团：2008年以来通过技术攻关，采用机械混合法试制出了 ITO 烧结靶；2013年，公司年产10吨ITO烧结靶生产线试生产，经过初步试镀，其效果良好。
华锡集团：已建成完整的热压法和高温气氛烧结法ITO靶材工艺，生产出“金海”牌ITO靶材；2013年11月又从台湾引进一条年产50吨的ITO靶材生产线，拟生产TFT-LCD用高档ITO靶材。
韶关西格玛：2002年涉足ITO靶材领域，2008年1月研发出高密度大尺寸靶材；2011年9月完成ITO靶材生产线安装，年产能达到20吨，计划2015年将年产能提升至100吨。
河北鹏达新材：与天津大学材料学院共同开发的高密度ITO靶材项目已于2012年建成中试生产线，现已具备年产10吨ITO靶材的能力。
水清木华研究中心《2013-2016年全球及中国ITO靶材行业研究报告》着重研究了以下内容：
 全球ITO靶材市场供需及竞争情况等；
中国ITO靶材技术现状、市场供需、竞争格局及发展趋势等；
全球及中国铟市场供需、进出口、价格情况等；
全球及中国ITO靶材下游产业现状及需求预测等；
全球7家、中国10家ITO靶材重点企业分析。
ITO (indium tin oxide) sputtering targets are one of the core and critical materials in electronic information area, mainly for the manufacture of flat panel liquid crystal displays, touch panel, thin film transistors, solar cells, transparent electrodes and multifunction glass.
Currently, global ITO sputtering targets are almost monopolized by a small minority of enterprises such as JX Nippon Mining & Metals, Mitsui Mining, Tosoh, Samsung, Heraeus and Umicore, in which Japanese and Korean companies account for nearly 80% of the market share. For lack of core technology, Chinese ITO sputtering target enterprises are still small in production scale, and basically in trial production or small batch production.
Global ITO sputtering target demand mainly comes from Japan, South Korea, mainland China and other Asian countries, of which China accounts for more than 35% of the total. Benefited from the rapid development of downstream industries such as flat panel displays, touch panels, etc., global ITO sputtering target demand will hit 2,500 tons or so by 2016, of which China’s demand will exceed 40%, as it is estimated.
In addition to supply & demand market influence, ITO sputtering targets are also directly affected by raw material indium market. 70% of the global indium is used for ITO sputtering target production, but the indium resource is very scarce, with basic reserves merely 16,000 tons. While the current global annual consumption is about 1,400 tons, thus, long-term supply of indium will suffer bottlenecks.
China is rich is indium in the world, whose basic reserves make up 62% of the world’s total. Slow developments in downstream deep processing industries, especially in ITO sputtering target market, lead to substantial indium export in China, while ITO sputtering target present a high dependence on import.
In order to break bottlenecks in technology and capacity and utilize indium resource effectively, Chinese enterprises have accelerated R&D and introduction of ITO sputtering technology and multiple high-end ITO sputtering target localization projects have been launched.
Zhuzhou Smelter Group Co., Ltd.: it has trial-produced ITO sintered sputtering target via mechanical mixing method by virtue of technological breakthroughs since 2008; in 2013, its 10-ton ITO sintered sputtering target production line was put into trial production, which showed a good effect in preliminary trial plating.
China Tin Group Co., Ltd.: it has built a complete ITO sputtering target process of hot-press approach and high temperature sintering method, which produces Jinhai ITO sputtering targets; in Nov. 2013, it introduced one 50-ton ITO sputtering target production line from Taiwai, which was used to produce high-end ITO sputtering targets for TET-LCD as planned.
Shaoguan Sigma Technology Co., Ltd.: embarked on ITO sputtering target field in 2002, it developed high-density large-sized sputtering target in Jan. 2008; in Sep.2011, it completed ITO sputtering target production line with annual capacity of 20 tons, which was to be lifted to 100 tons in 2015 as it was planed.
Hebei Pengda Advanced Materials Technology Co. Ltd: the co-developed high-density ITO sputtering target project with School of Materials, Tianjin University, had finished trial production line in 2012, which gets annual capacity of 10-ton ITO sputtering target at present.
The reports include the following aspects:
Supply & demand, competition, etc. in global ITO sputtering target market;
Technical status quo, market supply & demand, competition pattern, development trends of Chinese ITO sputtering targets;
Global and China indium market supply & demand, import & export, pricing, etc.;
Status quo and demand forecasts of Global and China ITO sputtering target downstream industries;
Analysis on seven global and ten Chinese key ITO sputtering target enterprises.
第一章 ITO靶材简介
1.1 概念
1.2 制备方法
1.3 产业链
第二章 全球ITO靶材发展现状
2.1市场供需
2.2 竞争格局
2.2.1 生产格局
2.2.2 消费格局
第三章 中国ITO靶材发展现状
3.1 发展概况
3.2 技术现状
3.3 市场供需
3.3.1 供给
3.3.2 需求
3.4 重点项目
3.5 替代产品
3.6 发展趋势
第四章 ITO靶材上游—铟市场
4.1 简介
4.2储量及分布
4.3 供需情况
4.3.1 供应情况
4.3.2 消费情况
4.3.3 库存情况
4.4 进出口情况
4.4.1 相关政策
4.4.2 进出口综述
4.4.3 出口情况
4.4.4 进口情况
4.5 价格走势
第五章 ITO靶材下游应用市场
5.1 概述
5.2 液晶显示器（LCD）面板
5.2.1 市场现状
4.5代TFT-LCD生产线（上海）
5.2.2 LCD面板用ITO靶材
5.3 触控面板（Touch Panel）
5.3.1 市场现状
5.3.2 触控面板用ITO靶材
5.4 其他
5.4.1 太阳能电池
5.4.2 LED
第六章 全球ITO 靶材重点企业
6.1三井金属矿业株式会社Mitsui Mining & Smelting Company
6.1.1 公司简介
6.1.2 经营情况
6.1.3 ITO靶材业务
6.2 JX日矿日石金属(JX Nippon Mining &Metals)
6.2.1 企业简介
6.2.2 经营情况
6.2.3 ITO靶材业务
6.3日本东曹 (Tosoh Corporation)
6.3.1 企业简介
6.3.2 经营情况
6.3.3 ITO靶材业务
6.4三星康宁(Samsung Corning)
6.4.1 企业简介
6.4.2 经营情况
6.4.3 ITO靶材业务
6.5 德国贺力氏（Heraeus）
6.5.1 企业简介
6.5.2 经营情况
6.5.3 ITO 靶材业务
6.6优美科(Umicore )
6.6.1 企业简介
6.6.2 经营情况
6.6.3 ITO靶材业务
6.7 光洋科（SOLAR）
6.7.1 企业简介
6.7.2 经营情况
6.7.3 ITO靶材业务
第七章 中国ITO靶材重点企业
7.1 株洲冶炼集团
7.1.1 企业简介
7.1.2 经营情况
7.1.3 ITO靶材业务
7.1.4 发展战略
7.2 柳州华锡集团
7.2.1 企业简介
7.2.2 经营情况
7.2.3 ITO靶材业务
7.2.4 竞争优势
7.3中色(宁夏)东方集团
7.3.1 企业简介
7.3.2 经营情况
7.3.3 ITO靶材业务
7.4广西晶联光电材料有限责任公司
7.4.1 企业简介
7.4.2 ITO靶材业务
7.4.3 发展战略
7.5 北京冶科纳米科技有限公司
7.5.1 企业简介
7.5.2 ITO靶材业务
7.6 威海市蓝狐特种材料开发有限公司
7.6.1 企业简介
7.6.2 ITO靶材业务
7.7 广东凯盛光伏技术研究院有限公司
7.7.1 企业简介
7.7.2 ITO靶材业务
7.8 韶关西格玛技术有限公司
7.8.1 企业简介
7.8.2 ITO靶材业务
7.9河北鹏达新材料科技有限公司
7.9.1 企业简介
7.9.2 ITO靶材业务
7.10长沙壹纳光电材料有限公司
7.10.1 企业简介
7.10.2 ITO靶材业务
第八章 总结与预测
8.1 市场
8.2 企业
1. ITO Sputtering Target
1.1 Definition
1.2 Preparation Method
1.3 Industry Chain
2. Global ITO Sputtering Target Development
2.1 Supply & Demand
2.2 Competition Pattern
2.2.1 Production Structure
2.2.2 Consumption Structure
3. China ITO Sputtering Target Development
3.1 Overview
3.2 Technology Status
3.3 Supply & Demand
3.3.1 Supply
3.3.2 Demand
3.4 Key Projects
3.5 Substitute Products
3.6 Development Trend
4. ITO Sputtering Target Upstream Indium Market
4.1 Introduction
4.2 Reserves and Distribution
4.3 Supply & Demand
4.3.1 Supply
4.3.2 Consumption
4.3.3 Inventory
4.4 Import & Export
4.4.1 Related Policies
4.4.2 Summary
4.4.3 Export
4.4.4 Import
4.5 Price Trend
5. ITO Target Downstream Application Market
5.1 Overview
5.2 LCD Panel
5.2.1 Status Quo
5.2.2 ITO Sputtering Target for LCD Panel
5.3 Touch Panel
5.3.1 Market Status
5.3.2 ITO Sputtering Target for Touch Panel
5.4 Others
5.4.1 Solar Cell
5.4.2 LED
6. Global Key ITO Sputtering Target Companies
6.1 Mitsui Mining & Smelting Company
6.1.1 Profile
6.1.2 Operation
6.1.3 ITO Sputtering Target Business
6.2 JX Nippon Mining &Metals
6.2.1 Profile
6.2.2 Operation
6.2.3 ITO Sputtering Target Business
6.3 Tosoh Corporation
6.3.1 Profile
6.3.2 Operation
6.3.3 ITO Sputtering Target Business
6.4 Samsung Corning
6.4.1 Profile
6.4.2 Operation
6.4.3 ITO Sputtering Target Business
6.5 Heraeus
6.5.1 Profile
6.5.2 Operation
6.5.3 ITO Sputtering Target Business
6.6 Umicore
6.6.1 Profile
6.6.2 Operation
6.6.3 ITO Sputtering Target Business
6.7 SOLAR
6.7.1 Profile
6.7.2 Operation
6.7.3 ITO Sputtering Target Business
7. China Key ITO Sputtering Target Companies
7.1 Zhuzhou Smelter Group Co., Ltd.
7.1.1 Profile
7.1.2 Operation
7.1.3 ITO Sputtering Target Business
7.1.4 Development Strategy
7.2 Guangxi China Tin Group
7.2.1 Profile
7.2.2 Operation
7.2.3 ITO Sputtering Target Business
7.2.4 Competitive Edge
7.3 CNMNC Ningxia Orient Group Co., Ltd.
7.3.1 Profile
7.3.2 Operation
7.3.3 ITO Sputtering Target Business
7.4 Guangxi Crystal Union Photoelectric Materials Co., Ltd.
7.4.1 Profile
7.4.2 ITO Sputtering Target Business
7.4.3 Development Strategy
7.5 Beijing Yeke Nano Tech Co., Ltd.
7.5.1 Profile
7.5.2 ITO Sputtering Target Business
7.6 Weihai Lanhu Special Materials Development Co., Ltd.
7.6.1 Profile
7.6.2 ITO Sputtering Target Business
7.7 Guangdong Triumph Photovoltaic Technology Research Institute Co., Ltd.
7.7.1 Profile
7.7.2 ITO Sputtering Target Business
7.8 Shaoguan Sigma Technology Co., Ltd
7.8.1 Profile
7.8.2 ITO Sputtering Target Business
7.9 Hebei Pengda Advanced Materials Technology Co. Ltd
7.9.1 Profile
7.9.2 ITO Sputtering Target Business
7.10 Enam Optoelectronic Material Co., Ltd.
7.10.1 Profile
7.10.2 ITO Sputtering Target Business
8. Summary and Forecast
8.1 Market
8.2 Company
表：ITO靶材主要制备方法及优缺点
图：ITO靶材产业链
表：2013年全球主要ITO靶材企业产能
图：2010-2016年全球ITO靶材产量
图：2010-2016年全球ITO靶材需求量
图：2013年全球ITO靶材供应市场（分国家/地区）格局
图：2013年全球ITO靶材主要企业市场份额
表：2013年全球ITO靶材产品市场格局
表：中国ITO靶材相关政策
表：中国主要企业ITO靶材制备方法
表：2013年中国主要ITO靶材企业产能
图：2011-2016年中国ITO靶材产量
图：2011-2016年中国ITO靶材需求量
表：2014年中国主要在拟建ITO靶材项目
表：近年投入ITO替代领域的主要企业
表：全球铟储量及基础储量分布
表：2006-2013年全球精铟产量
图：2004-2015年中国精铟产量
图：全球铟锭消费结构
图：2006-2013年全球铟消费量及同比增长
表：2012-2016年中国精铟消费量
表：2012-2014年泛亚有色金属交易所铟库存量
表：2007-2014年中国铟出口关税
图：2008-2014年中国铟出口配额总量
表：2013年中国铟出口企业及配额数量
表：2014年第一批铟出口企业及配额数量
图：2009-2013年中国铟净进口量
表：2009-2014年中国铟出口量
表：2013年中国铟（分国家国家/地区）出口量
表：2013年世界主要国家铟进口量
表：2013年日本铟（分国家/地区）进口量
表：2013年美国铟（分国家/地区）进口量
表：2009-2014年中国铟进口量
表：2013年中国铟（分国家/地区）进口量构成
图：2011-2014年中国铟现货价走势
表：2011-2013年国内外现货精铟均价
图：ITO靶材（按应用领域）消费结构
表：2011-2013大尺寸（9''以上）TFT LCD面板出货额
表：2013年底中国TFT-LCD生产线建设情况
图：2012-2016年中国液晶面板市场规模
图：ITO在LCD中的应用
图：2012-2018年全球触控面板出货量及出货额同比增长率
图：2012-2016年中国触控面板出货量预测
表：两种触控面板性能比较
图：电容式触控屏工作原理
表：2012-2016年全球触控面板用ITO靶材需求量预测
图：ITO在太阳能电池中的应用
图：ITO在LED中的应用
图：2012-2016年中国LED芯片市场规模
表：Mitsui Mining & Smelting主要业务及产品
图：2009-2013财年 Mitsui Mining & Smelting销售额及净利润
表：2011-2013财年Mitsui Mining & Smelting（分业务）销售额
表：2013年Mitsui Mining & Smelting公司ITO靶材制造厂及产能
表：JX Nippon Mining &Metals主要产品
图：JX Nippon Mining &Metals业务结构
图：2010-2013财年 JX Nippon Mining &Metals销售额
表：2013年JX Nippon Mining &Metals ITO靶材产能
表：2007-2013年日本东曹销售额及净利润
表：2013财年日本东曹（分业务）销售额
表：2009-2013年贺利氏主要经济指标
表：2012-2013年Umicore 主要经济指标
图：2013年Umicore营业收入（分业务）构成
图：2010-2014年光洋科营业收入及净利润
图：2009-2013年株冶集团营业收入及净利润
表：2012-2013年株冶集团（分业务）主营业务收入及毛利率
图：2009-2013年华锡集团营业收入及利润总额
图：华锡集团采用不同工艺制备的ITO靶材及技术参数
表：华锡集团ITO靶材技术参数
表：2013年中色（宁夏）东方集团主要经济指标
表：广西晶联光电ITO靶材性能
表：北京冶科ITO靶材性能
表：韶关西格玛公司ITO靶材性能
表：长沙壹纳光电ITO靶材性能
图：2013年中国ITO靶材主要企业市场份额（按产能）
Major Preparation Methods and Their Advantages & Disadvantages of ITO Sputtering Targets
ITO Sputtering Target Industry Chain
Capacities of World’s Major ITO Sputtering Target Enterprises, 2013
Global Output of ITO Sputtering Target, 2010-2016E
Global Demand for ITO Sputtering Target, 2010-2016E
Supply Market Layout of Global ITO Sputtering Targets (by Country/Region), 2013
Market Share of World’s Major ITO Sputtering Target Enterprises, 2013
Product Market Layout of Global ITO Sputtering Targets, 2013
Policies on ITO Sputtering Targets in China
ITO Sputtering Target Preparation Methods of Major Chinese Enterprises
Capacity of Major Chinese ITO Sputtering Target Enterprises, 2013
China’s Output of ITO Sputtering Targets, 2011-2016E
China’s Demand for ITO Sputtering Targets, 2011-2016E
Major ITO Sputtering Target Projects Planned or under Construction in China, 2014
Major Enterprises Embarking on ITO Substitution Field in Recent Years
Distribution of Global Indium Reserves and Basic Reserves
Global Output of Refined Indium, 2006-2013
China’s Output of Refined Indium, 2004-2015E
Global Indium Ingot Consumption Structure
Consumption and YoY Growth Rate of Indium Worldwide, 2006-2013
Consumption of Refined Indium in China, 2012-2016E
Indium Inventory of FANYA Metal Exchange, 2012-2014
China’s Indium Export Tariff, 2007-2014
China’s Total Indium Export Quotas, 2008-2014
Chinese Indium Exporting Enterprises and Quotas, 2013
First Batch of Indium Exporting Enterprises and Quotas, 2014
Net Import Volume of Indium in China, 2009-2013
China’s Indium Export Volume, 2009-2014
China’s Indium Export Volume (by Country/Region), 2013
Indium Import Volume of Global Major Countries, 2013
Japan’s Indium Import Volume (by Country/Region), 2013
United States’ Indium Import Volume (by Country/Region), 2013
China’s Indium Import Volume, 2009-2014
China’s Indium Import Volume Structure (by Country/Region), 2013
Spot Price Trend of Indium in China, 2011-2014
Average Spot Price of Refined Indium at Home and Abroad, 2011-2013
Consumption Structure of ITP Sputtering Target (by Application)
Large-sized (above 9'') TFT LCD Panel Shipment Amount, 2011-2013
Construction of TFT-LCD Production Lines in China at the End of 2013
China LCD Panel Market Scale, 2012-2016E
ITO Application in LCD
Global Shipment Volume and Value of Touch Panel and Their YoY Growth Rates, 2012-2018E
Shipment of Touch Panels in China, 2012-2016E
Performance Comparison between Two Types of Touch Panel
Working Principle of Capacitive Touch Screen
Global Touch Panels’ Demand for ITO Sputtering Targets, 2012-2016E
ITO Application in Solar Cell
ITO Application in LED
China’s LED Chip Market Size, 2012-2016E
Main Businesses and Products of Mitsui Mining & Smelting
Sales and Net Income of Mitsui Mining & Smelting, FY2009-FY2013
Sales of Mitsui Mining & Smelting (by Business), FY2011-FY2013
ITO Sputtering Target Manufactory and Capacity of Mitsui Mining & Smelting, 2013
Main Products of JX Nippon Mining & Metals
Business Structure of JX Nippon Mining & Metals
Sales of JX Nippon Mining & Metals, FY2010-FY2013
ITO Sputtering Target Capacity of JX Nippon Mining & Metals, 2013
Sales and Net Income of Tosoh Corporation, 2007-2013
Sales of Tosoh Corporation (by Business), FY2013
Major Economic Indicators of Heraeus, 2009-2013
Major Economic Indicators of Umicore, 2012-2013
Revenue Structure of Umicore (by Business), 2013
Revenue and Net Income of SOLAR, 2010-2014
Revenue and Net Income of Zhuzhou Smelter Group, 2009-2013
Operating Revenue and Gross Margin of Zhuzhou Smelter Group (by Business), 2012-2013
Revenue and Total Profit of Guangxi China Tin Group, 2009-2013
ITO Sputtering Targets and Technical Parameters Prepared by Guangxi China Tin Group with Different Processes
Technical Parameters for ITO Sputtering Target of Guangxi China Tin Group
Major Economic Indicators of CNMNC Ningxia Orient Group, 2013
ITO Sputtering Target Performance of Guangxi Crystal Union Photoelectric Materials
ITO Sputtering Target Performance of Beijing Yeke Nano Tech
ITO Sputtering Target Performance of Shaoguan Sigma Technology
ITO Sputtering Target Performance of Enam Optoelectronic Material
Market Share of Major ITO Sputtering Target Enterprises (by Capacity) in China, 2013
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